近日，英伟达的首席执行官黄仁勋在《All-In Podcast》上表示，他认为到2030年，中国有能力开发出自己的先进光刻系统。他提到，“中国将会在2030年前成功实现这一目标。时间非常紧迫，而中国在大规模生产方面的优势使得这只是时间的问题。因此，未来两到三年转眼即逝，他们实际上已经在这方面取得了进展。”黄仁勋对中国的科技进步持乐观态度，并指出中国的人工智能产业仅次于美国的一流实验室，考虑到中国在这一领域的巨额投资，这一判断是相对可信的。
需要注意的是，采访中并未明确“先进光刻系统”是否特指极紫外光（EUV）光刻机，这也是讨论的焦点。目前，ASML是全球唯一能批量生产EUV设备的厂商，同时也是涉及海外半导体管制的关键。而在业内，其他机构的观点相对谨慎，比如蔡司半导体的负责人曾表示，国产EUV设备的研发可能还需约15年的时间。
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